{"id":552095,"date":"2024-11-05T17:51:11","date_gmt":"2024-11-05T17:51:11","guid":{"rendered":"https:\/\/pdfstandards.shop\/product\/uncategorized\/vdi-2267-blatt-2\/"},"modified":"2024-11-05T17:51:11","modified_gmt":"2024-11-05T17:51:11","slug":"vdi-2267-blatt-2","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/pdfstandards.shop\/product\/publishers\/din\/vdi-2267-blatt-2\/","title":{"rendered":"VDI 2267 Blatt 2"},"content":{"rendered":"

In der Richtlinie werden Verfahren zur Elementbestimmung in der nassen und in der Bulk-Deposition nach Probenahme mit Bulk- und Wet-only-Sammlern (z.B. gem\u00e4\u00df DIN EN 15841 oder VDI 4320 Blatt 2 und Blatt 3) beschrieben. Die Analyse der Aufschlussl\u00f6sung erfolgt mithilfe der Graphitrohr-Atomabsorptionsspektrometrie (GF-AAS), der optischen Emissionsspektrometrie (ICP-OES) oder der induktiv gekoppelten Plasma-Massenspektrometrie (ICP-MS). Die Verfahren k\u00f6nnen insbesondere f\u00fcr folgende Zwecke eingesetzt werden: Messverfahren zur Bestimmung von Arsen, Cadmium, Blei und Nickel in atmosph\u00e4rischer Deposition gem\u00e4\u00df DIN EN 15841; Hintergrundmessungen zur Untersuchung der Deposition weitr\u00e4umig transportierter Luftverunreinigungen (z.B. r\u00e4umliche Verteilung und zeitliche Tendenzen); Elemente in Staubniederschlag gem\u00e4\u00df TA Luft, gem\u00e4\u00df Luftreinhalte-Verordnung der Schweiz (LRV) oder gem\u00e4\u00df Messkonzept zum Immissionsschutzgesetz-Luft in \u00d6sterreich; Elemente in Staubniederschlag im Umfeld von Industrieanlagen (anlagenbezogene Messungen); Bestimmung von Elementen in Staubniederschlag an verkehrsbelasteten Standorten und im st\u00e4dtischen Hintergrund (z.B. r\u00e4umliche Verteilung und zeitliche Tendenzen). Geeignete Aufschlussverfahren sind in VDI 2267 Blatt 3 beschrieben.*www.vdi.de\/2267<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

Stoffbestimmung an Partikeln in der Au\u00dfenluft – Messen von Al, As, Ba, Ca, Cd, Co, Cr, Cu, Fe, K, Mg, Mn, Na, Ni, Pb, Sb, Se, Sn, Tl, V und Zn als Bestandteil der atmosph\u00e4rischen Deposition nach Probenahme mit Bulk- und Wet-only-Sammlern mittels GF-AAS, ICP-OES und ICP-MS<\/b><\/p>\n\n\n\n\n
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